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TELOS AHCI SSCI 中科院4区 JCR:Q4
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被引量 321
影响因子(2023) 0.198

  • 主办单位： TELOS PRESS LTD
  • 出版周期： 季刊
  • 国际标准连续出版物号： ISSN 0090-6514
  • 创刊时间： 1968年
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封面
2020年190期
共：13篇

      不详

    • Pan, David

      3-8

    • Reszitnyk, Andrew

      9-27

    • Winkler, Sean

      29-51

    • Carralero, Pamela

      53-75

    • Grinter, Aaron

      77-91

    • Etherton, Ross

      93-115

    • Weiss, Joseph

      117-135

    • Dhillon, Dharmender S.

      136-156

    • Bradley, Arthur

      157-176

    • Pabst, Adrian

      177-180

    • Gupta, Jay A.

      181-184

    • Luke, Timothy W.

      185-191

    • Wender, Andrew M.

      193-195
2020年190期

2020年190期

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