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Antiphon: A Journal for Liturgical Renewal ESCI
发文量 282
被引量 1
影响因子(2023) 0.015

  • 主办单位： CATHOLIC UNIV AMER PRESS
  • 出版地区： United States
  • 出版周期： 年3期
  • 别名： Antiphon：礼仪更新杂志
  • 国际标准连续出版物号： ISSN 1543-9925
  • 创刊时间： 1996年
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封面
2024年03期
共：15篇

      不详

    • Lang, Uwe MichaelHeid, Stefan

    • Lang, Uwe Michael

    • Bradley, JamesRuiz, Ryan T.Endres, David J.

    • Smith, InnocentFreuler, Gaudenz

    • Haslwanter, EliasRauffer, Josef

    • Lang, Uwe MichaelQuoex, Franck

    • Wurtz, Michael

    • Magas, Kevin D.

    • Arias, JosephLusvardi, Anthony R.

    • Connors, Ryan

    • Whitfield, Mikail

    • Brummond, MichaelProthro, James B.

    • Lang, Uwe michaelLebrun, Pierre

    • Smith, O. P. InnocentKidd, Peter

    • Foley, Michael P.

2024年03期

2024年03期

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