- 首页
- 产品推荐个人精选服务科研辅助服务教育大数据服务行业精选服务学科系列服务产品服务
- 期刊大全
- 充值
- 会员
- 帮助
- 首页
- 产品服务
- 知识脉络
- 期刊大全
- 充值
- 会员
- 帮助
智能检索
沈阳拓荆科技研发化学气相沉积设备CVD
被引量：
1
摘
要：
作为国内领先的CVD设备供应商，拓荆由中国科学院所属公司和一批海外归国的技术专家于2010年共同创立。公司主要致力于研发生产创新、先进的化学气相沉积设备（CVD），帮助全球的半导体制造商生产集成电路器件，推动消费类和工业电子产品的发展。拓荆的PECVD设备己在中国两家客户生产线上通过量产验证，并接到了重复订单。
来
源：
关
键
词：
CVD设备; 沈阳; 集成电路器件; 半导体制造商; 科技研发; 化学气相; 沉积设备; 中国科学院
中
图
分
类
号：
TN405 [制造工艺]
学
科
分
类
号：
080903 [微电子学与固体电子学]; 1401 [集成电路科学与工程]
相关文献
暂无数据
相关学者
暂无数据
引文脉络
主题研究脉络
