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美国
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Antiphon: A Journal for Liturgical Renewal 中科院4区 ESCI
发文量 298
被引量 45

  • 主办单位： CATHOLIC UNIV AMER PRESS
  • 出版地区： WASHINGTON
  • 出版周期： 年3期
  • 别名： ANTIPHON;Antiphon;Antiphon-A Journal for Liturgical Renewal;Antiphon：礼仪更新杂志;ANTIPHON-A JOURNAL FOR LITURGICAL RENEWAL
  • 国际标准连续出版物号/电子版： ISSN 1543-9925 / EISSN 1543-9933
  • 创刊时间： 1996年
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封面
2025年2期
共：10篇

    • Ruiz, Ryan T.

      105-123

    • Briody, Joseph

      124-143

    • Foley, Michael p.

      144-171

    • Johnson, Karl Isaac

      172-175

    • Smith, O. P. Innocent

      175-178

    • Penalosa, O. S. B. Lorenzo

      179-181

    • Lang, Uwe MichaelConrad, Sven Leo

      182-185

    • Ruiz, Ryan T.

      185-188

    • Lang, Uwe Michael

      188-190

    • Brand, Clinton

      191-193
2025年2期

2025年2期

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