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韩国
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APPLIED SCIENCE AND CONVERGENCE TECHNOLOGY 中科院4区 JCR:Q4 ESCI
发文量 482
被引量 2,107
影响因子(2025版) 0.800

  • 主办单位： KOREAN VACUUM SOC
  • 出版地区： SEOUL
  • 出版周期： 双月刊
  • 别名： APPL SCI CONVERG TEC;Appl. Sci. Converg. Technol.;Applied Science and Convergence Technology
  • 创刊时间： 2014年
热门主题：

Optical PropertiesAtomic Force MicroscopyInductively Coupled PlasmaMolecular Beam EpitaxyUltraviolet Photoelectron SpectroscopyThin FilmsX-Ray Photoelectron SpectroscopyCapacitively Coupled PlasmaChemical Vapor DepositionRF Magnetron SputteringQuantum DotsThin FilmIndium Tin OxideSheet ResistanceThermal PlasmaTransition Metal DichalcogenidesElectrical PropertiesGraphene Field-effect TransistorAtmospheric Pressure PlasmaPlasma Discharge Simulation

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