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美国
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Journal of Micro/Nanopatterning, Materials, and Metrology 中科院3区 JCR:Q4 JCR:Q3 SCIE EI PubMed JST
发文量 1,991
被引量 20,209
影响因子(2025版) 1.158

  • 主办单位： SPIE-SOC PHOTO-OPTICAL INSTRUMENTATION ENGINEERS
  • 出版地区： BELLINGHAM
  • 出版周期： 季刊
  • 别名： J MICRO-NANOPATTERN;J. Micro-Nanopatterning Mater. Metrol.-JM3;JOURNAL OF MICRO-NANOPATTERNING MATERIALS AND METROLOGY-JM3
  • 创刊时间： 2021年
  • 曾用名： Journal of Micro - Nanolithography MEMS and MOEMS,Journal of Microlithography, Microfabrication and Microsystems
热门主题：

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