- 首页
- 产品推荐个人精选服务科研辅助服务教育大数据服务行业精选服务学科系列服务产品服务
- 期刊大全
- 充值
- 会员
- 职称材料
- 首页
- 产品服务
- 知识脉络
- 期刊大全
- 充值
- 会员
- 职称材料
搜期刊
刊名
文献信息
- 任意字段
- 主题词
- 篇关摘
- 篇名
- 关键词
- 摘要
- 作者
- 第一作者
- 作者单位
- 刊名
- 中图分类号
- 学科分类号
- DOI
- 基金
投稿预审
Journal de Physique. III
JST
- 主办单位： EDP Sciences
- 出版地区： Les Ulis
- 别名： Journal de physique. III : JP;Journal de Physique III;Journal de Physique. 3
- 国际标准连续出版物号/电子版： ISSN 1155-4320 / EISSN 1286-4897
- 曾用名： Revue de physique appliquée
热门主题：
Polycrystalline SiliconMagnetic FieldCadmium TellurideSiliconLow TemperatureTransmission Electron MicroscopyElectrical CharacterizationFinite Element MethodThin FilmsMossbauer SpectrometrySOLARGrain BoundariesTunnel EffectRoom TemperatureExperimental DataElectric FieldSuperconducting PropertiesCritical CurrentX-Ray DiffractionCharacterization
近1年
近3年
近5年
近10年
- 1
研究报告（共：0 篇 )
时效
暂无数据
- 1