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智利
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Chilean Journal of Law and Technology 中科院4区 JCR:Q3 ESCI
发文量 230
被引量 594
影响因子(2025版) 0.444

  • 主办单位： UNIV CHILE, FAC DERECHO
  • 出版地区： SANTIAGO
  • 出版周期： 半年刊
  • 别名： REV CHIL DERECHO TEC;Rev. Chil. Derecho Tecnol.;Revista Chilena de Derecho y Tecnología;Jornal Chileno de Direito e Tecnologia;Revista Chilena de Derecho y Tecnología;Revista Chilena de Derecho y Tecnologia;REVISTA CHILENA DE DERECHO Y TECNOLOGIA
  • 国际标准连续出版物号/电子版： ISSN 0719-2576 / EISSN 0719-2584
  • 创刊时间： 2002年
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封面
2015年2期
共：7篇

    • 7-8

    • Jervis Ortiz, Paula

      9-51

    • Carrillo, Arturo J.Nunziato, Dawn C.

      53-74

    • Figueroa Zimmermann, Felipe

      75-107

    • Schnettler Chavez, Ferdinand

      109-177

    • Canales Loebel, Maria Paz

      179-213

    • Munoz Massouh, Ana Maria

      215-261
2015年2期

2015年2期

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